施勇个展——让所有的可能都在内部以美好的形式解决

　　展期：6 月 5 日 - 8 月 24 日

　　地点：没顶画廊

　　地址：上海 莫干山路 50 号 7 号楼 4 楼

　　由没顶画廊出品的《让所有的可能都在内部以美好的形式解决》将呈现施勇全新环境装置作品。展览现场将是一场关于空间、物料和语言的游戏，通过“抹去”、“物化语言”等动作将叙事性的“词语”镶嵌进现实，最终又不得不以抽象艺术的方式呈现那种现实。正如艺术家所说，“我喜欢在作为背景的叙述语境中，通过嵌入某个词汇去瓦解原叙述，使之转换为另一种歧变的语境。利用‘抹去’这个概念并同样以‘抹去’的方法来突显被掩盖的，也或许是被蓄意制造的现实。”

　　展览现场

　　作品展示

　　展览关键词

　　抹去 erase

　　遮蔽 shield

　　围合 enclosure

　　复制 copy，replicate，duplicate，reproduce

　　抽象与抽象艺术 abstraction， abstract art

　　边角料 off-cut

　　装饰材料 decorative material

　　装饰工程 decoration engineering

　　修饰 modify

　　形式主义 formalism

　　秘密 secret

　　控制 Control;Command

　　线索 clue;hint;lead

　　作品图来源：没顶画廊

　　摄影：ArtWorld

　　编辑：ArtWorld

来源：艺术世界